近年来，随着全球石油、煤炭等化石能源的日益枯竭，太阳能越来越重要。清洁新能源，全球太阳能产业进入快速发展时期。同时，高纯度晶体硅材料也广泛应用于半导体行业。随着全球太阳能产业和半导体产业的快速发展，实验室纯水设备对硅片的需求急剧增加。在硅片加工过程中，高达50%~52%的晶体硅以硅粉的形式丢失。含硅废水中的硅粉非常薄，粒径在0.1~1mm范围内。大多数小颗粒悬浮在水中，难以沉积。即使静置半年以上，含硅废水仍处于混浊状态。

由于含硅废水中硅粉颗粒较小纯水设备，一般过滤处理后的水浊度仍较高，难以达到排放标准，过滤效率低，更换滤布周期短，成本高。

目前，硅片加工企业的硅废水处理方法主要是按照含有一般悬浮物的废水处理方法进行处理，即添加絮凝剂（如聚合氯化铝、聚合氯化铁、聚丙烯酰胺等）。是含硅废水的絮凝沉淀，然后压滤固液分离。该硅废水处理方法效率低、成本高、处理效果差。

鉴于现有技术的缺点和不足，有一种含硅废水的除硅处理工艺。含硅废水的处理工艺操作简单。在处理过程中不需要添加化学物质，以避免二次污染环境。除硅处理率高达99%，可适用于大规模处理。含硅废水经以下方法处理后，出水可稳定达标。

（1）将硅原水收集到原水收集池中，用提升泵将硅原水泵电解到电解槽中，然后将电解水放入沉淀池中，自然静态分层。

（2）排出电解自然分层处理后的下沉淀物，回收或排出分层处理后的上清液；在电解处理过程中，在电能的作用下，阳极缓慢溶解，产生Al、Mg等离子体，聚合产生多种羟基络合物、多核羟基络合物和氢氧化物，颗粒水解聚合产物带正电荷，比游离水合铝离子更能吸附污染物杂质负电荷表面，使废水中的胶体杂质、悬浮杂质凝聚沉淀，通过网络捕获去除硅，带电污染物颗粒在电场游泳，部分电荷被电极中和，促进其稳定沉降，然后去除水中的硅，通过电中和去除硅。纯水设备在电解过程中，乳白色絮体随着电解时间的延长而增加，pH值增加，沉淀速度加快，从而实现废水中硅的有效去除。纯水设备，实验室纯水设备, 无锡纯水设备,无锡水处理设备，无锡去离子水设备, 医用GMP纯化水设备。 半导体超纯水设备。