超纯水在太阳能行业、硅片切割行业的应用半导体晶片切割制造用水工艺、半导体芯片清洗
【无锡水处理设备http://www.xqccscn.com】超纯水应用范围概述:
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液
显像管和阴极射线管生产 配料用纯水
纯水设备黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液
晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
集成电路生产中高纯水清洗硅片
二、典型工艺流程
预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)
预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (最新工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)
纯水设备处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
三、达到标准
显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)
集成电路用纯水水质
国家电子级纯水标准
美国SEMI标准
高纯水的制备上。纯水设备, 无锡纯水设备,无锡水处理设备,无锡去离子水设备, 医用GMP纯化水设备。
- 上一篇:电子工业用超纯水概述 2021/3/23
- 下一篇:纯水设备知识:正渗透(FO)的技术原理 2021/3/23